Pixabay License. Volné pro komerční užití

Jak odpařit kov při nízké teplotě

Pro řadu technologických aplikací kovů a jejich sloučenin potřebujeme tyto látky v podobě tenkých filmů. Platí to pro polovodiče/elektroniku včetně displejů, katalyzátory i palivové články a další aplikace v energetickém průmyslu. Filmy se obvykle vyrábějí depozicí par. Problém je, že některé kovy, např. platina, iridium, ruthenium a wolfram, mají velmi vysoké teploty varu, k odpaření potřebujeme mnohdy teplotu nad 2 000 °C. Není to neřešitelná překážka, při rozprašování a odpařování pomocí elektronového paprsku dojde k roztavení a odpaření a na substrátu dokážeme potřebnou vrstvu vytvořit. Tyto metody jsou ale hodně drahé i energeticky náročné a použití vysokého elektrického napětí navíc znamená potenciální bezpečnostní riziko.
Vědci z University of Minnesota nyní v Proceedings of the National Academy of Sciences přišli s jednodušším postupem, který si již nechávají patentovat a jednají i s prvními partnery z průmyslu. Nová technika umožňuje kovy odpařit při výrazně nižších teplotách, méně než 200 °C. Ke kovu stačí přidat speciálně navržené organické ligandy (tisková zpráva k tomu pouze uvádí, že zkoumané molekuly obsahují uhlík, kyslík a vodík), čím dojde k podstatnému zvýšení tlaku par materiálů a to umožní jejich odpařování při nižších teplotách. Tato nová technika je nejen jednodušší, ale dá se také dále ladit a umožňuje vytvářet kvalitnější materiály na míru.
Kromě vlastních kovů by tímto způsobem mělo jít vytvářet také filmy jejich sloučenin, především oxidů, ale i dalších materiálů. Díky tomu by se materiály na bázi těžko tavitelných kovů mohly začít využívat i v celé řadě dalších aplikací.

William Nunn et al, Novel synthesis approach for „stubborn“ metals and metal oxides, PNAS (2021). DOI: 10.1073/pnas.2105713118
Zdroj: University of Minnesota / Phys.org

Voda v kráteru Gale na Marsu přetrvávala déle, než se myslelo

Mezinárodní tým vědců pod vedením Imperial College London objevil doklady otm, že v marsovském kráteru …

Napsat komentář

Vaše e-mailová adresa nebude zveřejněna. Vyžadované informace jsou označeny *

Používáme soubory cookies pro přizpůsobení obsahu webu a sledování návštěvnosti. Data o používání webu sdílíme s našimi partnery pro cílení reklamy a analýzu návštěvnosti. Více informací

The cookie settings on this website are set to "allow cookies" to give you the best browsing experience possible. If you continue to use this website without changing your cookie settings or you click "Accept" below then you are consenting to this.

Close